ABSORPTION IN NE-RICH AND AR-RICH XEFSTAR LASER MIXTURES

被引：13

作者：

ROKNI, M

JACOB, JH

MANGANO, JA

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1978年 / 32卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1063/1.89871

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：622 / 624

页数：3

共 11 条

[1] INFLUENCE OF DILUENT GAS ON XEF LASER [J].

CHAMPAGNE, LF ;

HARRIS, NW .

APPLIED PHYSICS LETTERS, 1977, 31 (08) :513-515

[2]

CHEN CT, UNPUBLISHED

[3]

HSIA J, 1977, 30TH ANN GAS EL C

[4]

KRAUSS M, 1977, 5TH C CHEM MOL LAS

[5]

KRAUSS M, COMMUNICATION

[6]

MCDANIEL EW, 1970, ION MOLECULE REACTIO, P338

[7]

POWELL HT, 1977, 30TH ANN GAS EL C

[8] DOMINANT FORMATION AND QUENCHING PROCESSES IN E-BEAM PUMPED ARFSTAR AND KRFSTAR LASERS [J].

ROKNI, M ;

JACOB, JH ;

MANGANO, JA .

PHYSICAL REVIEW A, 1977, 16 (06) :2216-2224

[9] FORMATION AND QUENCHING OF XEF-STAR IN NE-XE-F2 MIXTURES [J].

ROKNI, M ;

JACOB, JH ;

MANGANO, JA ;

BROCHU, R .

APPLIED PHYSICS LETTERS, 1978, 32 (04) :223-225

[10]

WALTER J, 1977, J CHEM PHYS, V67, P2860

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