EVALUATION OF THIN FILM INSULATORS

被引：62

作者：

PLISKIN, WA

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(68)90010-2

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：1 / &

共 32 条

[1]

ALCOCK CB, 1961, BRIT CERAM T, V60, P147

[2]

[Anonymous], 1962, MIA STORIA SACRA, P15

[3] DIELECTRIC THIN FILMS THROUGH RF SPUTTERING [J].

DAVIDSE, PD ;

MAISSEL, LI .

[4]

DAVIDSE PD, 1966, 3 T INT VAC C, V2, P651

[5]

FLORINSKAYA VA, 1953, DOKL AKAD NAUK SSSR+, V91, P59

HASS, G ;

SALZBERG, CD .

[7]

JELLYMAN PE, 1955, T SOC GLASS TECH, V39, pT173

[8]

JORGENSON JV, 1965, J APPL PHYS, V36, P2672

[9]

KOLESOVA VA, 1959, OPT SPECTROSC, V6, P20

[10] The infra-red reflection spectrum of silicates. II [J].

Matossi, Frank ;

Krueger, Hans .

ZEITSCHRIFT FUR PHYSIK, 1936, 99 (1-2) :1-23