ULTRAHIGH-VACUUM AIRLOCK FOR LEED AND AUGER SPECTROSCOPY

被引：2

作者：

ONO, M ^{[1
]}

SHIMIZU, H ^{[1
]}

NAKAYAMA, K ^{[1
]}

机构：

[1] ELECTR TECHN LAB,TANASHI,TOKYO,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1973年 / 10卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1318066

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：566 / 567

页数：2