X-RAY STRESS TOPOGRAPHY OF THIN FILMS ON GERMANIUM AND SILICON

被引：66

作者：

SCHWUTTK.GH

HOWARD, JK

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1656399

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1581 / &

共 35 条

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