DEFECTS IN X-RAY MASKS - DETECTION AND PRINTABILITY

被引：4

作者：

KLUWE, A ^{[1
]}

MULLER, KH ^{[1
]}

BETZ, H ^{[1
]}

OERTEL, H ^{[1
]}

机构：

[1] FRAUNHOFER INST MIKROSTRUKT TECH,BERLIN,FED REP GER

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1987年 / 5卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583879

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：262 / 265

页数：4

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