PLASMON DAMPING IN BERYLLIUM, MG, AL, SI, GE AND SN

被引：26

作者：

AIYAMA, T ^{[1
]}

YADA, K ^{[1
]}

机构：

[1] TOHOKU UNIV,RES INST SCI MEASUREMENTS,SENDAI,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JPSJ.36.1554

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：1554 / 1562

页数：9

共 36 条

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