SEM OBSERVATION OF DOPANT STRIAE IN SILICON

被引:27
作者
KOCK, AJRD
FERRIS, SD
KIMERLING, LC
LEAMY, HJ
机构
[1] PHILIPS RES LABS,EINDHOVEN,NETHERLANDS
[2] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
关键词
D O I
10.1063/1.323377
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:301 / 307
页数:7
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