REDUCTION OF ELECTROMIGRATION IN ALUMINUM FILMS BY COPPER DOPING

被引：221

作者：

AMES, I

DHEURLE, FM

HORSTMANN, RE

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1147/rd.144.0461

中图分类号：

TP3 [计算技术、计算机技术];

学科分类号：

0812 ;

摘要：

引用

页码：461 / +

页数：1

共 6 条

[1] CRUCIBLE TYPE EVAPORATION SOURCE FOR ALUMINUM [J].

AMES, I ;

KAPLAN, LH ;

ROLAND, PA .

[2]

AMES I, TO BE PUBLISHED

[3] ELECTROMIGRATION IN THIN AL FILMS [J].

BLECH, IA ;

MEIERAN, ES .

[4]

CHHABRA DS, PRIVATE COMMUNICATIO

[5]

DHEURLE F, 1968, T METALL SOC AIME, V242, P502

[6] CURRENT-INDUCED MASS TRANSPORT IN ALUMINUM [J].

PENNEY, RV .