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SIO2 THIN-FILM PREPARED FROM SI3H8 AND O-2 BY PHOTO-CVD USING DOUBLE EXCITATION
被引：18
作者：
OKUYAMA, M
FUJIKI, N
INOUE, K
HAMAKAWA, Y
机构：
[1] Osaka Univ, Toyonaka, Jpn, Osaka Univ, Toyonaka, Jpn
来源：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS
|
1987年
/
26卷
/
06期
关键词：
D O I：
10.1143/JJAP.26.L908
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
13
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页码：L908 / L910
页数：3
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