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SOLID-PHASE EPITAXIAL-GROWTH OF SI THROUGH A1 FILM
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作者
:
MAJNI, G
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MAJNI, G
OTTAVIANI, G
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OTTAVIANI, G
机构
:
来源
:
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH
|
1978年
/ 45卷
/ 01期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0022-0248(78)90424-4
中图分类号
:
O7 [晶体学];
学科分类号
:
0702 ;
070205 ;
0703 ;
080501 ;
摘要
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SOLID-PHASE EPITAXIAL-GROWTH OF SI THROUGH PALLADIUM SILICIDE LAYERS
CANALI, C
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CALTECH,PASADENA,CA 91125
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CANALI, C
CAMPISANO, SU
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LIAU, ZL
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MAYER, JW
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MAYER, JW
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1975,
46
(07)
: 2831
-
2836
[2]
CSEPREGI L, UNPUBLISHED
[3]
HEURLE FM, 1968, T METALL SOC AIME, V242, P502
[4]
LIAU ZL, 1975, J ELECTROCHEM SOC, V122, P1697
[5]
LARGE-AREA UNIFORM GROWTH OF (100) SI THROUGH AL FILM BY SOLID EPITAXY
MAJNI, G
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[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1977,
31
(02)
: 125
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[6]
SOLID-PHASE EPITAXIAL-GROWTH OF GERMANIUM THROUGH PALLADIUM GERMANIDE LAYERS
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[J].
THIN SOLID FILMS,
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[7]
Mayer J. W., 1970, ION IMPLANTATION SEM
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SOME ASPECTS OF GE EPITAXIAL-GROWTH BY SOLID-SOLUTION
OTTAVIANI, G
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[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1976,
47
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: 627
-
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[9]
ION CHANNELING STUDIES OF CRYSTALLINE PERFECTION OF EPITAXIAL LAYERS
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JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
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SOLID-PHASE EPITAXIAL-GROWTH OF SI THROUGH PALLADIUM SILICIDE LAYERS
CANALI, C
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MAYER, JW
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1975,
46
(07)
: 2831
-
2836
[2]
CSEPREGI L, UNPUBLISHED
[3]
HEURLE FM, 1968, T METALL SOC AIME, V242, P502
[4]
LIAU ZL, 1975, J ELECTROCHEM SOC, V122, P1697
[5]
LARGE-AREA UNIFORM GROWTH OF (100) SI THROUGH AL FILM BY SOLID EPITAXY
MAJNI, G
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OTTAVIANI, G
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1977,
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[6]
SOLID-PHASE EPITAXIAL-GROWTH OF GERMANIUM THROUGH PALLADIUM GERMANIDE LAYERS
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[J].
THIN SOLID FILMS,
1977,
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(02)
: 193
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199
[7]
Mayer J. W., 1970, ION IMPLANTATION SEM
[8]
SOME ASPECTS OF GE EPITAXIAL-GROWTH BY SOLID-SOLUTION
OTTAVIANI, G
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1976,
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[9]
ION CHANNELING STUDIES OF CRYSTALLINE PERFECTION OF EPITAXIAL LAYERS
PICRAUX, ST
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1973,
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