UBER DIE REDUKTION VON CHLORSILANEN MIT WASSERSTOFF

被引:32
作者
SIRTL, E
REUSCHEL, K
机构
来源
ZEITSCHRIFT FUR ANORGANISCHE UND ALLGEMEINE CHEMIE | 1964年 / 332卷 / 3-4期
关键词
D O I
10.1002/zaac.19643320302
中图分类号
O61 [无机化学];
学科分类号
070301 ; 081704 ;
摘要
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页码:113 / 123
页数:11
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JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1957, 28 (12) :1510-1511
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BYLANDER, EG .
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1962, 109 (12) :1171-1175
[3]  
CERNY C, 1953, CHEM LISTY, V47, P1742
[4]  
CERNY C, 1953, CHEM LISTY, V47, P1745
[5]  
CHARIG JM, 1962, J ELECTROCHEM SOC, V109, P257
[6]  
LI CH, 1962, J ELECTROCHEM SOC, V10, P952
[7]  
MELNIKOW AJ, 1957, J ANORG CHEM, V2, P233
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SCHAFER, H ;
NICKL, J .
ZEITSCHRIFT FUR ANORGANISCHE UND ALLGEMEINE CHEMIE, 1953, 274 (4-5) :250-264
[9]  
SEIDEL W, 1959, THESIS HAMBURG
[10]  
SIRTL E, 1961, TAGUNG NORDWESTDEUTS