VARIATION OF CONTACT RESISTANCE OF ELECTROLESS NI-P ON SILICON WITH THE CHANGE OF PHOSPHORUS CONCENTRATION IN THE DEPOSIT

被引：13

作者：

SINGH, BK

MITRA, RN

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1980年 / 127卷 / 12期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2129523

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：2578 / 2580

页数：3

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共 6 条

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