FAST COMPUTATION METHOD FOR EXPOSURE INTENSITY AND PATTERN CORRECTION IN ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引：8

作者：

KIKUCHI, A

KANAMARU, A

OKAZAKI, N

NAKANE, Y

TSUBOI, K

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1979年 / 16卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570289

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1764 / 1766

页数：3

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共 4 条

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