X-RAY DETERMINATION OF THE RESIDUAL-STRESSES IN THIN ALUMINUM FILMS DEPOSITED ON SILICON SUBSTRATES

被引：24

作者：

KORHONEN, MA ^{[1
]}

PASZKIET, CA ^{[1
]}

机构：

[1] CORNELL UNIV,DEPT MAT SCI & ENGN,ITHACA,NY 14853

来源：

SCRIPTA METALLURGICA | 1989年 / 23卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1016/0036-9748(89)90075-6

中图分类号：

TF [冶金工业];

学科分类号：

0806 ;

摘要：

引用

页码：1449 / 1453

页数：5

共 10 条

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