A COMPARISON OF ETCHING AND FRACTURING TECHNIQUES FOR STUDYING TWIN STRUCTURES IN GE, SI, AND III-V INTERMETALLIC COMPOUNDS

被引：13

作者：

FAUST, JW

JOHN, HF

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1960年 / 107卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2427743

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

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页码：562 / 564

页数：3

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共 4 条

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