Photo-resistance effect for metals at low temperatures

被引：6

作者：

Bartlett, RS ^{[1
]}

机构：

[1] Yale Univ, Sloane Lab, New Haven, CT USA

来源：

PHYSICAL REVIEW | 1925年 / 26卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1103/PhysRev.26.247

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

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页码：0247 / 0255

页数：9

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共 10 条

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