BEAM MONITORING-SYSTEM FOR SIMULTANEOUS MEASUREMENT OF NEAR AND FAR FIELD PATTERNS IN HIGH REPETITION RATE KRF LASERS

被引：9

作者：

YAGI, T

MATSUMI, Y

OHTA, K

BACHAR, J

SAITO, H

OBARA, M

FUJIOKA, T

机构：

[1] HOKKAIDO UNIV,APPL ELECTR RES INST,SAPPORO,HOKKAIDO 060,JAPAN

[2] KEIO UNIV,DEPT ELECT ENGN,KOHOKU KU,YOKOHAMA,KANAGAWA 223,JAPAN

来源：

APPLIED OPTICS | 1989年 / 28卷 / 17期

关键词：

D O I：

10.1364/AO.28.003775

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：4