OXIDATION OF TIN ON SILICON SUBSTRATE BY RAPID ISOTHERMAL PROCESSING

被引:34
作者
SINGH, R [1 ]
CHOU, P [1 ]
RADPOUR, F [1 ]
NELSON, AJ [1 ]
ULLAL, HS [1 ]
机构
[1] SOLAR ENERGY RES INST,GOLDEN,CO 80401
关键词
D O I
10.1063/1.344271
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:2381 / 2387
页数:7
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