THE EFFECT OF IMPLANT SPECIES ON DEFECT ANNEAL KINETICS .1. SILICON AND PHOSPHORUS IMPLANTATION

被引：12

作者：

PRUSSIN, S ^{[1
]}

JONES, KS ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV CALIF BERKELEY,DEPT MAT SCI & MINERAL ENGN,BERKELEY,CA 94720

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0168-583X(87)90888-3

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

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页数：3