RF AND DC REACTIVE SPUTTERING FOR CRYSTALLINE AND AMORPHOUS VO2 THIN-FILM DEPOSITION

被引：29

作者：

DUCHENE, J

TERRAILLON, M

PAILLY, M

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(72)90081-8

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：231 / +

页数：1

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共 4 条

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