STUDY OF OXIDE CAPTURE OF AN MOS STRUCTURE BY THERMAL STIMULATION

被引：2

作者：

LASSABATERE, L

SEVE, G

MENDOLIA, J

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(70)90001-5

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：381 / +

页数：1

共 9 条

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