SILICON CARBIDE FILMS EVAPORATED IN VACUUM ON SYNTHETIC MICAS

被引：8

作者：

ONUMA, Y

机构：

[1] Faculty of Engineering, Shinshu University

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1969年 / 8卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.8.401

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

[No abstract available]

引用

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页码：401 / &

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共 2 条

[1] THERMO-COUPLE CONSISTED OF GERMANIUM THIN FILM DEPOSITED IN VACUUM
ONUMA, Y
[J]. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1965, 4 (10) : 814 - &
[2] ONUMA Y, 1966, J I ELECT ENGRS JAPA, V86, P769