BEHAVIOR OF ULTRATHIN ZIRCONIUM FILMS UPON EXPOSURE TO OXYGEN

被引：38

作者：

FEHLNER, FP

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1709858

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2223 / &

共 31 条

[1]

ALEXANDER WA, 1950, CAN J RES, VB 28, P60

[2]

ANDREEVA VV, 1962, ZH PRIKL KHIM, V35, P1175

[3]

BASSETT GA, 1959, STRUCTURE PROPERTIES, P11

BECKER, JA ;

BECKER, EJ ;

BRANDES, RG .

[5]

BRENNAN D, 1960, P ROY SOC, VA256, P81

[6]

CASWELL HL, 1963, PHYS THIN FILMS, V1, P49

[7]

DAWSON JK, 1966, ELECTROCHEM TECHNOL, V4, P137

[8] ADSORPTION AND ELECTRICAL CONDUCTION IN THIN FILMS [J].

EHRLICH, G .

[9] ADSORPTION OF OXYGEN ON ULTRA-THIN TITANIUM FILMS [J].

FEHLNER, FP .

[10]

FEHLNER FP, 1967, 3 T INT VAC C 3, V2, P691