ELECTRON-BEAM MASKMAKER

被引：14

作者：

BEASLEY, JP ^{[1
]}

SQUIRE, DG ^{[1
]}

机构：

[1] MULLARD RES LABS,REDHILL,SURREY,ENGLAND

来源：

IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES | 1975年 / ED22卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1975.18148

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：376 / 384

页数：9

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共 3 条

[1]

BEASLEY JP, 1970, 4TH INT C EL ION BEA

[2]

ROBERTS ED, 1974, P APPL POLYMER S, V23, P87

[3]

1973, J VAC SCI TECHNOL, V10