THICK-TARGET X-RAY PRODUCTION IN THE RANGE FROM 1250 TO 2350 KILOVOLTS

被引：32

作者：

BUECHNER, WW

VANDEGRAAFF, RJ

BURRILL, EA

SPERDUTO, A

机构：

来源：

PHYSICAL REVIEW | 1948年 / 74卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1103/PhysRev.74.1348

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

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页码：1348 / 1352

页数：5

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共 5 条

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