HEAT-TREATMENT OF PURE SILICA GLASS STUDIED BY POSITRON-ANNIHILATION

被引：4

作者：

BRAUER, G

BODEN, G

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS | 1978年 / 16卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1007/BF00931432

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：119 / 120

页数：2

相关论文

共 5 条

[1]

BODEN G, 1977, SILIKATTECHNIK BERLI, V28, P341

[2]

BRAUER G, UNPUBLISHED

[3]

Bruckner R., 1970, Journal of Non-Crystalline Solids, V5, P123, DOI 10.1016/0022-3093(70)90190-0

[4]

Taylor D., 1973, Proceedings of the British Ceramic Society, P55

[5]

ZARZYCKI J, 1962, PHYS CHEM GLASSES-B, V3, P163