SELECTIVE ELECTRON-BEAM ETCHING OF MULTICOMPONENT POLYMER SYSTEMS

被引：38

作者：

THOMAS, EL ^{[1
]}

TALMON, Y ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV MINNESOTA,DEPT CHEM ENGN & MAT SCI,MINNEAPOLIS,MN 55455

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0032-3861(78)90044-7

中图分类号：

O63 [高分子化学（高聚物）];

学科分类号：

070305 ; 080501 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：225 / 227

页数：3

共 11 条

[1]

CHAPIRO A, 1962, RADIATION CHEMISTRY

CHARLESBY, A .

JOURNAL OF POLYMER SCIENCE, 1953, 11 (06) :513-520

CHARLESBY, A .

JOURNAL OF POLYMER SCIENCE, 1953, 11 (06) :521-529

GRUBB, DT .

[5] POLYMETHYL METHACRYLATE AS AN ELECTRON SENSITIVE RESIST [J].

HARRIS, RA .

[6]

MCMASTER LP, COMMUNICATION

[7]

MCMASTER LP, 1975, ASPECTS LIQUID LIQUI, P43

[8]

PETROV IY, 1958, T VSES SOVESHCH RAD, P279

[9]

Ratliff F, 1972, Sci Am, V226, P91

[10]

SCHULTZ AR, 1956, J POLYM SCI, V22, P495