EFFECT OF RTA ON THIN THERMAL OXIDE

被引：4

作者：

COSWAY, RG

HODEL, MW

机构：

[1] Motorola Inc, Mesa, AZ, USA, Motorola Inc, Mesa, AZ, USA

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1988年 / 135卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2095650

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

1

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页码：533 / 534

页数：2

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共 1 条

[1]

NULMAN J, 1985, IEEE ELECTRON DEVICE, V6