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EFFECTS OF HYDROGEN PLASMA ON THIN-OXIDE SI-SIO2 STRUCTURES
被引：10
作者：
KASSABOV, J
ATANASSOVA, E
DIMITROV, D
VASILEVA, J
机构：
关键词：
D O I：
10.1088/0268-1242/3/7/009
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
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页码：686 / 690
页数：5
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