PROPERTIES OF THIN ANTIMONY FILMS DEPOSITED IN HIGH VACUUM

被引：20

作者：

CONDAS, GA

WOOTEN, FO

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1736000

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：323 / &

共 8 条

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