RF SPUTTER ETCHING BY FLUORO-CHLORO-HYDROCARBON GASES

被引：50

作者：

HOSOKAWA, N ^{[1
]}

MATSUZAKI, R ^{[1
]}

ASAMAKI, T ^{[1
]}

机构：

[1] NIPPON ELECT VARIAN LTD, FUCHU, TOKYO, JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.7567/JJAPS.2S1.435

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：435 / 438

页数：4

相关论文

共 6 条

[1]

Davidse P. D., 1966, 13 NAT VAC S AM VAC, P51

[2]

FRITZ LL, 1971, SOLID STATE TECHNOL, V14, P171

[3]

JACKSON GN, 1970, THIN SOLID FILMS, V5, P205

KOZUMA, T ;

KOBAYASHI, T ;

HAMAGUCHI, C ;

NAKAI, J ;

FUJIOKA, T ;

MATSUZAWA, A .

[5]

SPENCER EG, 1971, J V SCI TECH, V8, P62

[6]

TSUI RTC, 1967, 2ND P S DEP THIN FIL, P53