EFFECTS OF THIN CONDUCTIVE FILM MASK ON ION-IMPLANTATION

被引：2

作者：

NAKATSUKA, M

TANAKA, K

KIKKAWA, T

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1978年 / 125卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2131305

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：1829 / 1832

页数：4

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