The rate of evaporation of tantalum

被引：22

作者：

Langmuir, DB ^{[1
]}

Malter, L ^{[1
]}

机构：

[1] RCA Mfg Co, Res & Engn Dept, Harrison, NJ USA

来源：

PHYSICAL REVIEW | 1939年 / 55卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1103/PhysRev.55.748

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

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页码：0748 / 0749

页数：2

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共 3 条

[1] Resistance, emissivities and melting point of tantalum
Malter, L
Langmuir, DB
[J]. PHYSICAL REVIEW, 1939, 55 (08): : 0743 - 0747
[2] TAYLOR HS, 1931, TREATISE PHYS CHEM, V1, P245
[3] Zwikker C., 1928, PHYSICA, V8, P241