KINETICS OF WSI2 FORMATION IN THIN-FILM SYSTEM W-PTSI-SI

被引:21
作者
SINHA, AK [1 ]
SMITH, TE [1 ]
机构
[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
关键词
D O I
10.1063/1.1662786
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:3465 / 3469
页数:5
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