O-2 PLASMA ETCH RATE REDUCTION ON SYNCHROTRON RADIATION EXPOSED PMMA FILM

被引：6

作者：

SAITO, K

YOSHIKAWA, A

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1987年 / 26卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.26.L1428

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L1428 / L1430

页数：3