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HIGH TEMPERATURE FURNACE FOR ELECTRON DIFFRACTION STUDIES OF THIN FILMS
被引:4
作者
:
ALESSANDRINI, EI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
ALESSANDRINI, EI
机构
:
来源
:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1949年
/ 20卷
/ 07期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.1698509
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:691 / 693
页数:3
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