MICROSTRUCTURE, RESISTIVITY AND THE ANISOTROPY OF THE UPPER CRITICAL-FIELD IN NBN THIN-FILMS

被引:12
作者
RUDMAN, DA
JUANG, JY
VANDOVER, RB
NAKAHARA, S
CAPONE, DW
TALVACCHIO, J
机构
[1] AT&T BELL LABS,MURRAY HILL,NJ 07974
[2] ARGONNE NATL LAB,ARGONNE,IL 60439
[3] WESTINGHOUSE ELECT CORP,CTR RES & DEV,PITTSBURGH,PA 15235
关键词
D O I
10.1109/TMAG.1987.1065011
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页数:8
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