THE PHOTOELECTROCHEMICAL BEHAVIOR OF FERRIC-OXIDE IN THE PRESENCE OF REDOX REAGENTS

被引:115
作者
IWANSKI, P [1 ]
CURRAN, JS [1 ]
GISSLER, W [1 ]
MEMMING, R [1 ]
机构
[1] PHILIPS FORSCHUNGSLAB HAMBURG GMBH,D-2000 HAMBURG 54,FED REP GER
关键词
D O I
10.1149/1.2127202
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
引用
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页码:2128 / 2133
页数:6
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