用于F-T合成的沉淀铁催化剂的X射线光电子谱的研究

应用XPS研究了Fe-Cu-K-Si沉淀铁催化剂表面原子组成及其纵深分布、原子存在的化学形态及其在催化剂还原及合成气反应后的动态变化。研究结果表明,该催化剂表面是贫铁富Si、Cu,表层中各原子分布呈规律变化。研究获得丁Fe-Si相互作用的某些证据,这种相互作用导致铁的化学形态及催化特性的改变。