自控温室黄瓜茎蔓、叶片生长与有效积温关系的研究

被引：4

作者：

杨秋珍

李军

机构：

[1] 上海市气象科学研究所

[2] 上海市气象科学研究所上海

[3] 上海

来源：

生态农业研究 | 2000年 / 04期

关键词：

有效积温; 荷兰黄瓜; 茎蔓; 叶片;

D O I：

暂无

中图分类号：

S642.2 [黄瓜];

学科分类号：

摘要：

研究了引进自控温室荷兰黄瓜叶片、茎蔓生长规律及与温室气候环境的关系。结果表明,与黄瓜茎蔓、叶片生长进程关系最密切的因子为12～25℃有效积温;叶片生长对温度反应呈非线性,13～19节位出叶所需12～25℃有效积温最少,平均每长1叶仅需10.6～10.9℃有效积温,比定植～5叶期少1/2以上。其他各节位每出1叶所需积温分别是定植～5叶为29.1℃,5～10叶为15.3℃,10～15叶为11.3℃,15～20叶为10.82℃,20～25叶为12.9℃,各生育期所需12～25℃有效积温较为稳定。在上海地区气候条件下建议采用变温管理方式以提高温度,通过气候环境的合理调控,实现黄瓜低成本生产和增产增收。

引用

页数：3

共 10 条

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