利用AFLP遗传连锁图定位大麦苗期对叶锈病的部分抗性基因

被引：27

作者：

陈万权

漆小泉

R E Niks

机构：

[1] 荷兰Wageningen农业大学植物育种系!NLAJ,中国农业科学院植物保护研究所,北京,,荷兰Wageningen农业大学植物育种系!NLAJ,荷兰Wageningen农业大学植物育种系!NLAJ

来源：

遗传学报 | 1999年 / 06期

关键词：

大麦叶锈病; 数量抗性基因; 重组自交系; 小种专化性;

D O I：

暂无

中图分类号：

Q348 [数量遗传学（生物统计遗传学）];

学科分类号：

071007 ; 090102 ;

摘要：

借助大麦染色体AFLP标记遗传连锁图和MapQTLV3．0作图软件，对大麦叶锈病的数量抗性基因（QRL）进行了定位分析，明确了大麦部分抗性品种Vada对叶锈病的潜育期由分别位于染色体1、2、6、7上离短臂末端79cM、186cM、58cM和117cM处的4个数量抗性基因所控制。发现位于第7染色体上的QRL存在着病菌致病类型的专化性。讨论了区间作图法（IM）和复合区间作图法（CIM）的优缺点，建议以多种方法构建QTL图谱，并优先标定共同检测到的QTL。

引用

页码：690 / 694

页数：5

共 7 条

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