Thin films deposition from hexamethyldisiloxane and hexamethyldisilazane under Dielectric-Barrier Discharge (DBD) conditions

被引：79

作者：

Schmidt-Szalowski, K. ^{[1
]}

Rzanek-Boroch, Z. ^{[1
]}

Sentek, J. ^{[1
]}

Rymuza, Z. ^{[1
]}

Kusznierewicz, Z. ^{[1
]}

Misiak, M. ^{[1
]}

机构：

[1] Faculty of Chemistry, Warsaw University of Technology, Warszawa, Poland

来源：

关键词：

D O I：

10.1023/A:1011314420080

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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