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Integrated conventional and laser re-crystallised amorphous silicon thin film transistors for large area imaging and display applications
被引:7
作者
:
Hack, M.
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
Xerox Palo Alto Research Cent, Palo Alto, United States
Xerox Palo Alto Research Cent, Palo Alto, United States
Hack, M.
[
1
]
Mei, P.
论文数:
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机构:
Xerox Palo Alto Research Cent, Palo Alto, United States
Xerox Palo Alto Research Cent, Palo Alto, United States
Mei, P.
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Lujan, R.
论文数:
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机构:
Xerox Palo Alto Research Cent, Palo Alto, United States
Xerox Palo Alto Research Cent, Palo Alto, United States
Lujan, R.
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Lewis, A.G.
论文数:
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机构:
Xerox Palo Alto Research Cent, Palo Alto, United States
Xerox Palo Alto Research Cent, Palo Alto, United States
Lewis, A.G.
[
1
]
机构
:
[1]
Xerox Palo Alto Research Cent, Palo Alto, United States
来源
:
Journal of Non-Crystalline Solids
|
1993年
/ 164-66卷
/ pt 2期
关键词
:
Thin film devices;
D O I
:
10.1016/0022-3093(93)91100-H
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
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