METAL LIFT-OFF USING A TRILEVEL RESIST SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY.

被引：3

作者：

Etrillard, J. ^{[1
]}

Bellessa, J. ^{[1
]}

Izrael, A. ^{[1
]}

机构：

[1] CNET, Bagneux, Fr, CNET, Bagneux, Fr

来源：

Microelectronic Engineering | 1987年 / 7卷 / 01期

关键词：

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY - MULTILAYER RESIST;

D O I：

10.1016/0167-9317(87)90003-7

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

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