ELIMINATION OF SUBSTRATE DAMAGE IN FOCUSED-ION-BEAM REPAIR OF PHOTOMASK.

被引：5

作者：

Onoda, H. ^{[1
]}

Morimoto, H. ^{[1
]}

Kawashima, M. ^{[1
]}

Watakabe, Y. ^{[1
]}

Kato, T. ^{[1
]}

机构：

[1] Mitsubishi Electric Corp, Itami, Jpn, Mitsubishi Electric Corp, Itami, Jpn

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0167-9317(87)90095-5

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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