Modeling of the formation and transport of nanoparticles in silane plasmas

被引：34

作者：

De Bleecker, Kathleen ^{[1
]}

Bogaerts, Annemie ^{[1
]}

Goedheer, Wim ^{[2
]}

机构：

[1] Department of Chemistry, University of Antwerp, Universiteitsplein 1, 2610 Wilrijk, Belgium

[2] FOM-Inst. Plasma Phys. Rijnhuizen, P.O. Box 1207, 3430 BE Nieuwegein, Netherlands

来源：

Physical Review E - Statistical, Nonlinear, and Soft Matter Physics | 2004年 / 70卷 / 5 2期

关键词：

Deposition rates - Polymorphous silicon films - Silane plasmas - Spatial distributions;

D O I：

10.1103/PhysRevE.70.056407

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

(Edited Abstract)

引用

页码：056407 / 1