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IMPROVEMENT OF THERMALLY FORMED NICKEL SILICIDE BY ION IRRADIATION.
被引：26
作者：
Wielunski, L.S.
Lien, C.D.
Liu, B.X.
Nicolet, M.A.
机构：
来源：
Journal of vacuum science & technology
|
1982年
/
20卷
/
02期
关键词：
Compendex;
D O I：
10.1116/1.571353
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
NICKEL SILICON COMPOUNDS
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页码：182 / 185
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