RF compensated probes for high-density discharges

被引：251

作者：

Sudit, I.D.

Chen, F.F.

机构：

来源：

Plasma Sources Science and Technology | 1994年 / 3卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1088/0963-0252/3/2/006

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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