LINEWIDTH METROLOGY FOR X-RAY MASKS WITH SUBHALFMICRON FEATURE SIZE.

被引：2

作者：

Mescheder, U. ^{[1
]}

Mund, F. ^{[1
]}

Huber, H.-L. ^{[1
]}

机构：

[1] Philips GmbH, Hamburg, West Ger, Philips GmbH, Hamburg, West Ger

来源：

Microelectronic Engineering | 1987年 / 6卷 / 1-4期

关键词：

D O I：

10.1016/0167-9317(87)90101-8

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

INTEGRATED CIRCUITS

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