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DOSE DEPENDENCE OF 45 keV V + AND Bi + ION SPUTTERING YIELD OF COPPER.
被引：28
作者：
Andersen, Hans Henrik
机构：
来源：
Radiation Effects
|
1973年
/
19卷
/
04期
关键词：
Compendex;
D O I：
10.1080/00337577308232257
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
COPPER AND ALLOYS
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页码：257 / 261
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